Objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno

Blancos de pulverización para WC

Carburo de tungsteno Sputtering Targets are mainly used to prepare high-quality, high-purity DLC (diamond-like carbon) coatings. These coatings find wide applications in automotive engine parts, herramientas de corte, decoración de superficies y otros campos.
Carburo de tungsteno Los objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno se utilizan como metal dopante o capa de transición para recubrimientos DLC. Desempeñan un papel crucial en la reducción del coeficiente de fricción de los recubrimientos DLC, mejorando la tensión interna de los recubrimientos y aumentando la fuerza de unión de los recubrimientos. Esto mejora efectivamente el rendimiento y la gama de aplicaciones de los recubrimientos DLC.

Nuestras ventajas incluyen

alta densidad (densidad teórica ≥15,5 g/cm3),
excelente resistencia térmica y eléctrica,
y microestructura óptima y homogénea.

Tipo de material para objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno

Carburo de tungsteno sin aglutinante

This sputtering target is made of 100% carburo de tungsteno, with and without binders. The material type is carburo de tungsteno without a binder.
Carburo sin aglutinante Manufactured by HIP using a hot press sintering process, this product utilises advanced production technology and stable raw materials to ensure a fine and uniform grain size. The pure carburo de tungsteno is close to the theoretical density (≥15.5g/cm3) and does not contain any harmful substances such as cobalt or nickel.

Carburo de tungsteno a base de níquel

Los objetivos de pulverización catódica son materiales rentables y respetuosos con el medio ambiente que son seguros tanto para el medio ambiente como para el cuerpo humano.

Carburo de tungsteno a base de cobalto

Los objetivos de pulverización catódica son adecuados para uso industrial.

Material objetivo WTi/WSi

Las industrias buscan objetivos de pulverización catódica de WTi de alto rendimiento que produzcan menos partículas, películas delgadas altamente uniformes y posean buenas propiedades eléctricas. Nuestros objetivos de WTi también tienen alta pureza y densidad, lo que cumple con los requisitos de barreras de difusión confiables en circuitos integrados complejos.

La película delgada de WSi se usa comúnmente en semiconductores, particularmente en memorias como DRAM, para servir como una capa de contacto óhmico de rejilla eficaz.

Capacidad de fabricación según su requerimiento.

We can manufacture rectangular and round pure carburo de tungsteno sputtering targets according to your specific requirements.
Nuestros objetivos adheridos son más estables y menos propensos a romperse, lo que los hace más fáciles de manejar.

Los grados