Sputtertargets aus Wolframcarbid

WC-Sputtertargets

Wolframkarbid Sputtertargets werden hauptsächlich zur Herstellung hochwertiger, hochreiner DLC-Beschichtungen (diamantähnlicher Kohlenstoff) verwendet. Diese Beschichtungen finden breite Anwendung in Automobilmotorteilen, Schneidewerkzeuge, Oberflächendekoration und andere Bereiche.
Wolframcarbid Wolframkarbid-WC-Sputtertargets werden als Dotierungsmetall oder Übergangsschicht für DLC-Beschichtungen verwendet. Sie spielen eine entscheidende Rolle bei der Reduzierung des Reibungskoeffizienten von DLC-Beschichtungen, der Verbesserung der inneren Spannung von Beschichtungen und der Erhöhung der Haftfestigkeit von Beschichtungen. Dadurch werden die Leistungsfähigkeit und der Einsatzbereich von DLC-Beschichtungen wirkungsvoll erweitert.

Zu unseren Vorteilen zählen

hohe Dichte (theoretische Dichte ≥15,5g/cm3),
ausgezeichnete thermische und elektrische Beständigkeit,
und optimale und homogene Mikrostruktur.

Materialtyp für Sputtertargets aus Wolframkarbid

Bindemittelloses Wolframkarbid

This sputtering target is made of 100% binderless Wolframcarbid (no binder phase).
Bindemittelloses Hartmetall Dieses Produkt wird von HIP im Heißpress-Sinterverfahren hergestellt. Dabei kommen fortschrittliche Produktionstechnologien und stabile Rohstoffe zum Einsatz, um eine feine und gleichmäßige Korngröße zu gewährleisten. Das reine Wolframcarbid liegt nahe an der theoretischen Dichte (≥15,5g/cm3) und enthält keine schädlichen Substanzen wie Kobalt oder Nickel.

Wolframkarbid auf Nickelbasis

Sputtertargets sind umweltfreundliche und kostengünstige Materialien, die sowohl für die Umwelt als auch für den menschlichen Körper unbedenklich sind.

Wolframkarbid auf Kobaltbasis

Sputtertargets sind für den industriellen Einsatz geeignet.

WTi/WSi-Targetmaterial

Die Industrie ist auf der Suche nach leistungsstarken WTi-Sputtertargets, die weniger Partikel produzieren, sehr gleichmäßige dünne Filme erzeugen und über gute elektrische Eigenschaften verfügen. Unsere WTi-Targets weisen außerdem eine hohe Reinheit und Dichte auf und erfüllen die Anforderungen an zuverlässige Diffusionsbarrieren in komplexen integrierten Schaltkreisen.

WSi-Dünnfilme werden üblicherweise in Halbleitern, insbesondere in Speichern wie DRAM, verwendet, um als effektive ohmsche Kontaktschicht des Gitters zu dienen.

Fertigungskapazität nach Ihren Anforderungen

Wir fertigen rechteckige und runde reine Wolframcarbid Sputtertargets entsprechend Ihren spezifischen Anforderungen.
Unsere geklebten Targets sind stabiler und weniger bruchanfällig, wodurch sie einfacher zu handhaben sind.

Noten