Alvos de pulverização catódica de carboneto de tungstênio

Alvos de pulverização catódica de WC

Carboneto de tungstênio Alvos de pulverização catódica são usados principalmente para preparar revestimentos DLC (carbono tipo diamante) de alta qualidade e pureza. Esses revestimentos encontram ampla aplicação em peças de motores automotivos, ferramentas de corte, decoração de superfície e outros campos.
Carboneto de tungstênio Os alvos de pulverização catódica de carboneto de tungstênio são usados como metal dopante ou camada de transição para revestimentos DLC. Eles desempenham um papel crucial na redução do coeficiente de atrito dos revestimentos DLC, melhorando a tensão interna dos revestimentos e aumentando a resistência de ligação dos revestimentos. Isto melhora efetivamente o desempenho e a faixa de aplicação dos revestimentos DLC.

Nossas vantagens incluem

alta densidade (densidade teórica ≥15,5g/cm3),
excelente resistência térmica e elétrica,
e microestrutura ideal e homogênea.

Tipo de material para alvos de pulverização catódica de carboneto de tungstênio

Carboneto de tungstênio sem ligante

Este alvo de pulverização catódica é fabricado em 100% de carboneto de tungstênio (sem fase ligante).
Carboneto sem ligante Fabricado pela HIP usando um processo de sinterização por prensagem a quente, este produto utiliza tecnologia de produção avançada e matérias-primas estáveis para garantir um tamanho de grão fino e uniforme. O puro carboneto de tungstênio está próximo da densidade teórica (≥15,5g/cm3) e não contém nenhuma substância nociva, como cobalto ou níquel.

Carboneto de tungstênio à base de níquel

os alvos de pulverização catódica são materiais ecologicamente corretos e econômicos, seguros tanto para o meio ambiente quanto para o corpo humano.

Carboneto de tungstênio à base de cobalto

alvos de pulverização catódica são adequados para uso industrial.

Material alvo WTi/WSi

As indústrias buscam alvos de pulverização catódica WTi de alto desempenho que produzam menos partículas, filmes finos altamente uniformes e possuam boas propriedades elétricas. Nossos alvos WTi também possuem alta pureza e densidade, atendendo aos requisitos de barreiras de difusão confiáveis em circuitos integrados complexos.

O filme fino WSi é comumente usado em semicondutores, particularmente em memórias como DRAM, para servir como uma camada de contato ôhmico de grade eficaz.

Capacidade de fabricação conforme sua necessidade

Podemos fabricar puro retangular e redondo carboneto de tungstênio alvos de pulverização catódica de acordo com suas necessidades específicas.
Nossos alvos colados são mais estáveis e menos propensos a quebras, tornando-os mais fáceis de manusear.

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