Sputtertargets aus Wolframcarbid

WC-Sputtertargets

Wolframkarbid Sputtering Targets are mainly used to prepare high-quality, high-purity DLC (diamond-like carbon) coatings. These coatings find wide applications in automotive engine parts, Schneidewerkzeuge, Oberflächendekoration und andere Bereiche.
Wolframcarbid Wolframkarbid-WC-Sputtertargets werden als Dotierungsmetall oder Übergangsschicht für DLC-Beschichtungen verwendet. Sie spielen eine entscheidende Rolle bei der Reduzierung des Reibungskoeffizienten von DLC-Beschichtungen, der Verbesserung der inneren Spannung von Beschichtungen und der Erhöhung der Haftfestigkeit von Beschichtungen. Dadurch werden die Leistungsfähigkeit und der Einsatzbereich von DLC-Beschichtungen wirkungsvoll erweitert.

Zu unseren Vorteilen zählen

hohe Dichte (theoretische Dichte ≥15,5g/cm3),
ausgezeichnete thermische und elektrische Beständigkeit,
und optimale und homogene Mikrostruktur.

Materialtyp für Sputtertargets aus Wolframkarbid

Bindemittelloses Wolframkarbid

This sputtering target is made of 100% Wolframcarbid, with and without binders. The material type is Wolframcarbid without a binder.
Bindemittelloses Hartmetall Manufactured by HIP using a hot press sintering process, this product utilises advanced production technology and stable raw materials to ensure a fine and uniform grain size. The pure Wolframcarbid is close to the theoretical density (≥15.5g/cm3) and does not contain any harmful substances such as cobalt or nickel.

Wolframkarbid auf Nickelbasis

Sputtertargets sind umweltfreundliche und kostengünstige Materialien, die sowohl für die Umwelt als auch für den menschlichen Körper unbedenklich sind.

Wolframkarbid auf Kobaltbasis

Sputtertargets sind für den industriellen Einsatz geeignet.

WTi/WSi-Targetmaterial

Die Industrie ist auf der Suche nach leistungsstarken WTi-Sputtertargets, die weniger Partikel produzieren, sehr gleichmäßige dünne Filme erzeugen und über gute elektrische Eigenschaften verfügen. Unsere WTi-Targets weisen außerdem eine hohe Reinheit und Dichte auf und erfüllen die Anforderungen an zuverlässige Diffusionsbarrieren in komplexen integrierten Schaltkreisen.

WSi-Dünnfilme werden üblicherweise in Halbleitern, insbesondere in Speichern wie DRAM, verwendet, um als effektive ohmsche Kontaktschicht des Gitters zu dienen.

Fertigungskapazität nach Ihren Anforderungen

We can manufacture rectangular and round pure Wolframcarbid sputtering targets according to your specific requirements.
Unsere geklebten Targets sind stabiler und weniger bruchanfällig, wodurch sie einfacher zu handhaben sind.

Noten